近日

我校武汉光电国度盘问中心团队

在国内当先攻克

合成光刻胶所需的原料和配方

助推我国芯片制造关键原材料

破裂瓶颈

其研发的T150A光刻胶系列产物

已通过半导体工艺量产考证

末端了 原材料沿途国产

配方全自主揣度打算

有望始创国内半导体光刻制造新时势

光刻胶是一种感光材料，用于芯片制造的光刻气象，责任旨趣访佛于摄影机的菲林曝光。芯片制造时，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘图好电路图。当精辟透过掩膜版照耀到光刻胶上会发生曝光，经由一系列惩处后，晶圆上就会得到所需的电路图。 由于光刻胶是芯片制造的关键材料，国际企业对其原料和配方高度守秘，当今我国所使用的光刻胶九成以上依赖入口。

武汉光电国度盘问中心团队研发的这款半导体专用光刻胶对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。 相较于国际同系列某产物，T150A在光刻工艺中发达出的极限别离率达到120nm，且工艺宽宏度更大、褂讪性更高、留膜率更优，其对刻蚀工艺发达更好，通过考证发现T150A中密集图形经由刻蚀，基层介质的侧壁垂直度发达优异。

团队在电子化学品规模深耕二十余载，安身于关键光刻胶底层技艺盘问，勇猛于于半导体专用高端电子化学品原材料和光刻胶的建树，并以新技艺门道为半导体制造开导新式先进光刻制造技艺，同期为材料的分析与考证提供全面的技巧。

团队素雅东谈主暗示：“以光刻技艺的分子基础盘问和原材料的建树为起初，最终取得具有自主常识产权的配方技艺，这仅仅个运转。咱们团队还会发展一系列哄骗于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，勇猛于于破裂国际卡脖子关键技艺，为国内联系产业带来更多惊喜。”

开端：华科

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